随着市场对某些标准气体的组分含量要求越来越低，这是基于中国某些高纯气体尤其是空分气体的纯度不断提高。空分产品中N2、O2、Ar的纯度有的已经达到99.9999%，国家标准也因为生产、使用单位的水平提高而不断提升，按照标准中规定的检测指标，进行检测需要各种高质量的标准气体。
随着我国半导体、光电技术的飞速发展，研发提纯净化水平高、耐高压、使用方便、投资少、易推广的目标，对N2、H2、He、Ar、O2、NO气体配制用高压提纯技术及装置尤为重要。
一、氮气提纯技术
采用高效的脱氧催化剂，利用脱氧催化剂的氧化还原特点，脱除N2中的痕量O2，脱氧在室温下进行，催化剂失活后通氢还原，还原温度为350-450℃，其特点是有一定的水蒸汽排出。然后用大量的N2吹洗或抽空与通氮相结合的方式将H2吹净。
二、氢气、氦气提纯技术
提纯装置内充装两种耐低温的多孔吸附剂，经过良好的换热设计，在低温条件下吸附，可有效将H2、He中的杂质除去，其纯度可达99.9999%，由于条件十分的苛刻，操作者一定要经过严格的培训指导，否则极易发生安全事故。由于该方法可有效除去H2中的N2、CO、CH4等，也可以推广为规模化H2提纯方式，此类低温法是高纯H2生产的重要方法之一。
三、一氧化碳提纯技术
一氧化碳为底气的标准气体，市场需求尽管不大，但用户必需，该标气要求CO2、O2成分的含量较低，采用高纯CO配制从理论讲是可以的，但高纯CO的价格较高，同时高纯CO有时其中的CO2、O2含量也满足不了要求，为此，必须利用现有条件，在气体的超纯提纯上下工夫，通过完备的分析设备和分析技术，可以成功解决这一问题，根据标准气体的制造特点，采用脱氧和脱水在同一装置内内同时实现，设备工作压力15MPa，所用的催化剂为3种不同活性的复合型脱氧剂，其中的一种抗中毒容量大，测试效果十分明显，从中也获得CO脱O2、CO2技术，为电子级CO的生产提供了技术拓展基础。
四、氩气提纯技术
高纯氩气的分析检测，需要标准气体。根据GB/T10642高纯氩气国家标准，高纯氩气分为3个等级，其控制成分要求较地低，通常大空分分馏出来的液态Ar质量很好。氩气的净化除采用精馏的方法外，对充瓶后的氩多采用终端提纯的手段，吸气剂可以同氩气中的几乎所有的杂质反应，反应的程度取决于杂质的种类及反应温度，N2是比较难除的杂质，其它如O2、CO2、H2O杂质可通过其它的常规方法除净，为了节省价格不菲的吸气剂，在提纯设备流程设计时，应考虑气体的初级净化，由于吸气剂的激化温度高达500℃以上，又是在高压下工作，所以所用设备的安全问题，是必须要高度的重视，吸气剂由于参加了化学反应，在使用时不断的消耗，其吸气能力随着床层的降低而不断下降，当发现Ar的纯度下降，应考虑是否需要更换吸气剂。在Ar提纯时可采用国产的吸气剂，成本可降低较多。
